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J-GLOBAL ID：200903078664011136

昇温脱離ガス分析装置および分析方法

Inventor：
大塚 俊宏

About 大塚 俊宏


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (2)： 宮井 暎夫 ,  伊藤 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003320944
Publication number (International publication number)：2005090987
Application date： Sep. 12, 2003
Publication date： Apr. 07, 2005
Summary：
【課題】 加熱チャンバ内壁に吸着するハロゲン元素を吸着防止し、信頼性のあるハロゲン元素の脱離ガス特性を測定可能とする。【解決手段】 真空排気されたロードロックチャンバ1と、ロードロックチャンバ1から搬送された試料を加熱、昇温させる加熱チャンバ11とを備え、試料21から発生するハロゲン元素の脱離ガス特性を測定する昇温脱離ガス分析装置であって、加熱チャンバ11内壁の表面が、三酸化二アルミニウム膜または三酸化二クロム膜で被覆されている。加熱チャンバ内壁を高耐腐食性のある三酸化二アルミニウム膜または三酸化二クロム膜で被覆することで、試料を加熱・昇温した際、加熱チャンバ内壁に吸着するハロゲン元素(F、Cl、Brなど)の吸着防止し、信頼性のある脱離ガス特性を収集できる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
真空排気されたロードロックチャンバと、前記ロードロックチャンバから搬送された試料を加熱、昇温させる加熱チャンバとを備え、前記試料から発生するハロゲン元素の脱離ガス特性を測定する昇温脱離ガス分析装置であって、前記加熱チャンバ内壁の表面が、三酸化二アルミニウム膜または三酸化二クロム膜で被覆されていることを特徴とする昇温脱離ガス分析装置。
IPC (6)：
G01N25/00 ,  G01N1/22 ,  G01N1/28 ,  G01N23/227 ,  G01N25/02 ,  G01N27/62
FI (6)：
G01N25/00 K ,  G01N1/22 L ,  G01N23/227 ,  G01N25/02 A ,  G01N27/62 V ,  G01N1/28 K
F-Term (34)：
2G001AA01 ,  2G001BA08 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001KA13 ,  2G001MA05 ,  2G001NA07 ,  2G001NA13 ,  2G001NA17 ,  2G001PA02 ,  2G001PA07 ,  2G001RA01 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G001RA04 ,  2G001RA10 ,  2G001RA20 ,  2G001SA10 ,  2G040AA02 ,  2G040AB11 ,  2G040BA25 ,  2G040BB01 ,  2G040EB02 ,  2G040EC06 ,  2G040ZA01 ,  2G052AA13 ,  2G052AC28 ,  2G052AD13 ,  2G052AD33 ,  2G052AD42 ,  2G052DA21 ,  2G052EB01 ,  2G052EB11 ,  2G052GA24
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)

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