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J-GLOBAL ID：200903078768826360

ホログラム光学素子の製造方法及びホログラム露光装置

Inventor：
大内 由美子

About 大内 由美子


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 細江 利昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003003843
Publication number (International publication number)：2004219497
Application date： Jan. 10, 2003
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：
【課題】画像再生時の光学系を簡単なものとした場合でも、明るく高性能な再生画像を得ることができるホログラム光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】所定の波長のレーザー光を射出するレーザー光源1R、1G、1Rからのレーザー光は、ビームスプリッタ4R、4G、4Bにより参照光と物体光に分離される。参照光は光量・偏光調整部材群5R、5G、5Bにより光量調整と偏光調整を受けた後、コリメータレンズ8R、8G、8Bにより平行光とされて、プリズム14の感光面に照射される。物体光は、光量・偏光調整部材群10R、10G、10Bにより光量調整と偏光調整を受け、各波長ごとに最適化された露光レンズ群13R、13G、13Bにより、所望の波面変換を受けた後、非球面波となって、プリズム14の感光面に照射される。レーザー光は、各波長毎に、異なった光路を通り、別々に調整されるので、最適な露光を行うことができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
ホログラム感光体に対して、異なる波長帯域のレーザー光を照射することにより、上記の感光体を露光してホログラム光学素子を製造する方法であって、前記レーザー光の光源からホログラム感光体までの光路を、各レーザー光毎に別々として露光を行うことを特徴とするホログラム光学素子の製造方法。
IPC (4)：
G03H1/04 ,  G02B5/32 ,  G02B27/28 ,  G03H1/28
FI (4)：
G03H1/04 ,  G02B5/32 ,  G02B27/28 Z ,  G03H1/28
F-Term (19)：
2H049CA05 ,  2H049CA08 ,  2H049CA17 ,  2H049CA22 ,  2H049CA28 ,  2H099AA00 ,  2H099BA17 ,  2H099CA05 ,  2H099DA00 ,  2H099DA09 ,  2K008AA14 ,  2K008BB04 ,  2K008BB06 ,  2K008EE04 ,  2K008FF08 ,  2K008FF14 ,  2K008HH03 ,  2K008HH06 ,  2K008HH11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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