露光装置及びデバイスの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：丸島儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999026340
Publication number (International publication number)：1999307449
Application date： Feb. 03, 1999
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】多重露光による微細パターンの形成を高精度に行う。【解決手段】感光性基板上に現像前にパターン露光を多重に行う装置で、該多重のパターン露光の少なくともいくつかを、パターンとは別の潜像によるマークを用いて感光性基板との相対位置合わせを行う事によって実行する。

Claim (excerpt)：

感光性基板上に現像前にパターン露光を多重に行う装置であって、該多重のパターン露光の少なくともいくつかを、前記パターンとは別の露光形成されたアライメントマークの潜像を用いて前記感光性基板との相対位置合わせを行う事によって実行することを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (5)：

H01L 21/30 514 A , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 520 Z , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

微細パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-129287 Applicant：シヤープ株式会社
特開平4-355910
マスクパターンを基板上に繰り返し結像する方法及びこの方法を実施する装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-500594 Applicant：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

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