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J-GLOBAL ID：200903078790848050

炭化膜及びその製造法

Inventor：
吉宗 美紀

About 吉宗 美紀

, 
原谷 賢治

About 原谷 賢治

, 
須田 洋幸

About 須田 洋幸


Applicant, Patent owner：
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005044852
Publication number (International publication number)：2006231095
Application date： Feb. 21, 2005
Publication date： Sep. 07, 2006
Summary：
【課題】優れた気体透過性と気体透過選択性を有すると共に炭化膜を作製させる操作が簡単であり、価格も安く経済的な気体分離用炭化膜を提供すること。【解決手段】実質的に下記の繰り返し単位からなり、その繰り返し単位の和(b+c+d)の(a+b+c+d)に対する割合が0〜100%であるポリフェニレンオキシドから気体分離用炭化膜を製造する。 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 (式中、R11〜R12、R21〜R22、R31〜R34は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいトリ低級アルキルシリル基、スルホン基、カルボキシル基、置換基を有してもよいジアリールホスフィノ基を示す。ただし、R11〜R12が共に水素原子ではなく、R21〜R22が共に水素原子ではなく、R31〜R34全てが同時に水素原子ではない。)【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
実質的に下記繰り返し単位(1)からなるポリフェニレンオキシドポリマーの炭化物からなることを特徴とする気体分離用炭化膜。
IPC (2)：
B01D 71/02 ,  C01B 31/02
FI (2)：
B01D71/02 500 ,  C01B31/02 101A
F-Term (30)：
4D006GA41 ,  4D006HA18 ,  4D006MA01 ,  4D006MA25 ,  4D006MB04 ,  4D006MC05X ,  4D006NA05 ,  4D006NA26 ,  4D006NA50 ,  4D006NA64 ,  4D006PA02 ,  4D006PB17 ,  4D006PB18 ,  4D006PB19 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PC71 ,  4D006PC72 ,  4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AD32 ,  4G146BA13 ,  4G146BB05 ,  4G146BB06 ,  4G146BC03 ,  4G146BC27 ,  4G146BC33B ,  4G146BC37B
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)
  • 気体分離膜
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-243113   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • 特許第2626837号

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