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J-GLOBAL ID：200903078807166268

ガス制御装置及びガス供給方法

Inventor：
ダオ ホン ゼン

About ダオ ホン ゼン

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ジョン アーベン

About ジョン アーベン

, 
マーク エー.ジョージ

About マーク エー.ジョージ


Applicant, Patent owner：
エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド

About エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド


Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998325319
Publication number (International publication number)：1999218297
Application date： Nov. 16, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：
【要約】【課題】 圧縮ガス容器と共に使用するモジュール式ガス制御装置を提供する。【解決手段】 モジュール式ガス制御装置は一次モジュールとこれに装着された二次モジュールを有し、一次モジュールは主ガス流路が形成された第1の支持体を有し、第1の支持体は圧縮ガス容器にガス流路を接続するための入口接続手段を有する。減圧手段が前記容器内圧力より低い圧力でガス流路にガスを供給し、減圧手段の下流の出口接続手段が主ガス流路からの低圧出口を形成する。高圧閉止弁が減圧手段の上流に配置され充填手段が入口流路から離れた第2の流路に沿って入口接続手段を通して圧縮ガスをシリンダに充填する。二次モジュールが支持体と主流路を有し、一次モジュール上に二次モジュールを装着するための出口接続手段と対応する入口接続手段を有する。
Claim (excerpt)：
圧縮ガス容器と共に使用するためのモジュール式ガス制御装置であって、前記装置が、一次モジュール(152)と、この一次モジュール上に装着された二次モジュール(252)とを含み、前記一次モジュールが、その支持体内を通過する第1の主ガス流路(155)を有する第1の支持体(154)を含み、前記第1の支持体が、圧縮ガス容器(111)上に前記第1の支持体を装着するための及び前記ガス容器と連通するように前記ガス流路を接続するための入口接続手段(156)、前記容器(111)内の圧力よりも著しく低い選択された圧力で前記ガス流路内にガスを供給するための減圧手段(166)、前記主ガス流路(155)からの出口を与えるための、前記減圧手段(166)の下流の出口接続手段(170)、前記減圧手段(166)の上流の、前記ガス流路(155)内の高圧閉止弁(164)、前記入口接続手段(156)を通過する圧縮ガスで前記容器を充填するための充填手段(160、161)、並びに、前記主ガス流(155)に対するパージガスを受け入れるための、前記減圧手段(166)の上流のパージガス入口弁(172)を有し、前記二次モジュール(252)が、その支持体を通過する第2の主ガス流路(255)を有する第2の支持体(254)を含み、前記第2の支持体が、前記一次モジュール(152)上に前記第2の支持体を装着するための及び前記一次モジュール(152)の前記出口接続手段(170)に前記第2の主ガス流路(255)を接続するための第2の入口接続手段(256)、並びに前記第2の主ガス流路(255)からの出口を与えるための第2の出口接続手段(270)を有し、前記二次モジュール(253)の前記支持体(254)が、ガス流に関連する機能を果たすための少なくとも2つの機能構成要素の組合せを有するモジュール式ガス制御装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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