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J-GLOBAL ID:200903078885759135
露光方法及び露光装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 敬 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001397519
Publication number (International publication number):2003195511
Application date: Dec. 27, 2001
Publication date: Jul. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 レーザビーム露光方法において、露光するパターンの微細化に対応するために不可避となる描画ビーム径や分解能の微細化による描画データの肥大化を防ぐことを課題とする。【解決手段】 被露光面(14)の露光領域の周辺領域に対して照射面積の小さい、例えば径の小さなビーム(32)を用いて露光し、且つ内部領域を照射面積の大きい、例えば径の大きなレーザビーム(42)を用いると共に、両レーザビームを異なる走査ピッチで走査することを特徴とする。
Claim (excerpt):
被露光面の単一の露光領域に対して照射面積及び走査ピッチの異なる複数のビームを用いて露光することを特徴とする露光方法。
IPC (3):
G03F 7/20 501
, G03F 7/20 505
, H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/20 501
, G03F 7/20 505
, H01L 21/30 515 B
, H01L 21/30 529
F-Term (10):
2H097AA03
, 2H097AA13
, 2H097CA17
, 2H097LA09
, 2H097LA10
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046DA01
, 5F046DA02
, 5F046DB01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
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解像度可変の光走査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-353741
Applicant:旭光学工業株式会社
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特開平3-054817
-
特開平4-026109
-
特開平4-026109
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プリンタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-119021
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
特開平3-054817
-
特開平3-054817
-
特開昭59-151423
-
画像焼付方法、画像焼付装置、ならびに写真処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-056345
Applicant:ノーリツ鋼機株式会社
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電子ビーム描画方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-005455
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭59-151423
-
特開平4-026109
-
特開昭63-208216
-
特開昭63-208216
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特開昭55-118633
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特開昭55-118633
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