光ディスク製造方法及びその方法により製造された光ディスク

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997234853
Publication number (International publication number)：1999073691
Application date： Aug. 29, 1997
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】光透過層の厚さを基板全面にわたって均一にすることができる光ディスクの製造方法及びその方法により製造された光ディスクを提供すること。【解決手段】光硬化樹脂を塗布した後に、基板最外周部に発生する前記光硬化樹脂の盛り上がり部分14に前記光が照射されないように、前記樹脂盛り上がり部分をマスク30により覆い、前記光硬化樹脂に前記光を照射し、前記樹脂盛り上がり部分以外の部分の光硬化樹脂を硬化させ、前記基板を再び回転させて前記樹脂盛り上がり部分の光硬化樹脂を除去し、除去した後に残った光硬化樹脂に前記光を照射し、この光硬化樹脂を硬化させる。

Claim (excerpt)：

基板を回転させて前記基板上に光硬化樹脂を塗布し、前記光硬化樹脂に光を照射し、前記光硬化樹脂を硬化させて光透過層を形成する光ディスク製造方法において、前記光硬化樹脂を塗布した後に、基板最外周部に発生する前記光硬化樹脂の盛り上がり部分に前記光が照射されないように、前記樹脂盛り上がり部分をマスクにより覆い、前記光硬化樹脂に前記光を照射し、前記樹脂盛り上がり部分以外の部分の光硬化樹脂を硬化させ、前記基板を再び回転させて前記樹脂盛り上がり部分の光硬化樹脂を除去し、除去した後に残った光硬化樹脂に前記光を照射し、この光硬化樹脂を硬化させることを特徴とする光ディスク製造方法。

IPC (3)：

G11B 7/26 531 , G11B 7/24 535 , G11B 11/10 541

FI (3)：

G11B 7/26 531 , G11B 7/24 535 G , G11B 11/10 541 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平4-310647
光学記録媒体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-037023 Applicant：ソニー株式会社, 株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
光学記録媒体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-318236 Applicant：ソニー株式会社

Show all

Return to Previous Page