マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：牛木護 , 清水栄松 , 吉田正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006180485
Publication number (International publication number)：2008010683
Application date： Jun. 29, 2006
Publication date： Jan. 17, 2008
Summary：

【課題】優れた特性を持つプラズマの発生と制御を可能として、薄膜形成およびエッチングなどの処理に最適なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置1は、基板106を収納する処理室10を有するともに、一部にマイクロ波が透過可能な誘電体窓104が気密に設けられた真空容器105と、導波管101を伝搬してくるマイクロ波を前記真空容器105内に導入する誘電体アンテナ102と、前記処理室10内の前記誘電体窓104に沿って設置さる導体板203とを具備する。そして、前記処理室10内に設置されている内部容器201と、前記内部容器201内に設置されている複数の導体202とを有し、前記導体板203と前記内部容器201と前記複数の導体202のそれぞれに電気リード線210が設けられ、一方が前記電気リード線210に接続されているスイッチ211、212、213の他方は前記真空容器105外部のアース回路とつながっている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板を収納する処理室を有するともに、一部にマイクロ波が透過可能な誘電体窓が気密に設けられた真空容器と、導波管を伝搬してくるマイクロ波を前記真空容器内に導入するアンテナと、前記処理室内の前記誘電体窓に沿って設置され、前記真空容器とは電気的に絶縁されると共に、前記マイクロ波が透過可能な部位を有する導体板とを具備するマイクロ波プラズマ処理装置であって、前記処理室内に設置され、前記真空容器とは電気的に絶縁されている内部容器と、前記内部容器とは電気的に絶縁され、前記内部容器内に設置されている複数の導体とを有し、前記導体板と前記内部容器と前記複数の導体のそれぞれに電気リード線が設けられ、一方が前記電気リード線に接続されているスイッチの他方は前記真空容器外部のアース回路とつながっていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 , C23C 16/511

FI (2)：

H01L21/205 , C23C16/511

F-Term (21)：

4K030AA10 , 4K030AA14 , 4K030AA17 , 4K030BA27 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA01 , 4K030JA17 , 4K030KA08 , 4K030KA19 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030KA37 , 5F045AA09 , 5F045AB07 , 5F045AD10 , 5F045DP04 , 5F045EC01 , 5F045EH02 , 5F045EH06 , 5F045EH20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-279674 Applicant：桂井誠

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

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