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J-GLOBAL ID：200903079064255909
光パルス発生素子
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998059752
Publication number (International publication number)：1999261136
Application date： Mar. 11, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：
【要約】【課題】 固体レーザ媒質および過飽和吸収体を含む光パルス発生素子で、1.5μm帯のレーザ光を直接得る。【解決手段】 固体レーザ媒質として、エルビウムおよびイッテルビウムを含むガラスレーザ媒質33を用いる。過飽和吸収体37として、ウランをドープしたフッ化カルシウム板を用いる。これらガラスレーザ媒質33と過飽和吸収体37とを、励起光50の一部はガラスレーザ媒質33側に反射し、残りは過飽和吸収体37側に透過する中間膜35を介して接しさせる。ガラスレーザ媒質33側に入力ミラー31を設け、過飽和吸収体37側に出力ミラー39を設ける。
Claim (excerpt)：
入力ミラー、固体レーザ媒質、過飽和吸収体および出力ミラーをこの順に具え、前記入力ミラー側から励起光が照射されて使用される光パルス発生素子において、前記固体レーザ媒質として、Er(エルビウム)イオンをドープしたガラスレーザ媒質、又は、Yb(イッテルビウム)イオンおよびTm(ツリウム)イオンをドープしたYLF(YLiF4 )結晶を具え、該固体レーザ媒質と前記過飽和吸収体との間に、前記励起光の一部を該固体レーザ媒質側に反射し、残りを前記過飽和吸収体側に透過させる中間膜を具えたことを特徴とする光パルス発生素子。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
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受動的Qスイッチピコ秒マイクロレーザー
Gazette classification：公表公報
Application number：特願平7-521349
Applicant：マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジー
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特開平3-135082
Article cited by the Patent：
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