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J-GLOBAL ID:200903079068598380

カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ形成用転写フィルム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998289878
Publication number (International publication number):2000121822
Application date: Oct. 12, 1998
Publication date: Apr. 28, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 高感度で、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れを生じることがなく、かつ基板および遮光層への密着性に優れた画素を与えるカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ形成用転写フィルムを提供する。【解決手段】 支持フィルム上に形成された膜形成材料層21を基板11上に転写し、基板上に転写された膜形成材料層上にレジスト膜を形成し、レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、レジスト膜を現像処理してレジストパターン35を顕在化させ、膜形成材料層をエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターン25を形成し、パターンを熱硬化させてカラーフィルタを製造する。
Claim (excerpt):
支持フィルム上に形成された膜形成材料層を基板上に転写し、基板上に転写された膜形成材料層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、膜形成材料層をエッチング処理してレジストパターンに対応する膜形成材料層のパターンを形成し、当該パターンを熱硬化させる工程を含む方法により形成することを特徴とする、カラーフィルタの製造方法。
IPC (3):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/40 521
FI (3):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/40 521
F-Term (24):
2H048BA45 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46 ,  2H091FA02Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FB13 ,  2H091FC01 ,  2H091FC10 ,  2H091FC22 ,  2H091FC26 ,  2H091LA02 ,  2H091LA07 ,  2H091LA12 ,  2H096AA28 ,  2H096BA06 ,  2H096BA10 ,  2H096CA12 ,  2H096EA02 ,  2H096GA09 ,  2H096HA15 ,  2H096HA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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