感放射線性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996173684
Publication number (International publication number)：1998020501
Application date： Jul. 03, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】定在波およびハレーションの発生が抑えられ、解像度、およびパターン形状に優れており、高精度の微細パターンを安定して形成することができ、しかも、紫外線、遠紫外線、X線あるいは荷電子線の如き各種放射線に有効に感応して、化学増幅型ポジレジストとして極めて有効な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線の照射によって酸を発生する感放射線性酸発生剤と、(B)酸の作用によって分解するすることによりアルカリ現像液に対する溶解性が向上する基を含む高分子化合物と、(C)炭素数が4以上20以下のアルキルカルボン酸および炭素数が4以上20以下のフルオロアルキルカルボン酸よりなる群より選ばれる化合物とからなる感放射線性樹脂組成物。この組成物は含窒素塩基性化合物(D)をさらに含有することができる。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線の照射によって酸を発生する感放射線性酸発生剤と、(B)酸の作用によって分解するすることによりアルカリ現像液に対する溶解性を向上させる基を含む高分子化合物と、(C)炭素数が4以上20以下のアルキルカルボン酸および炭素数が4以上20以下のフルオロアルキルカルボン酸よりなる群から選ばれた化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-312670 Applicant：日本ゼオン株式会社
パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-100310 Applicant：株式会社東芝

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