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J-GLOBAL ID：200903079242598173
処理システム及びこれを用いたデバイス生産方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995069611
Publication number (International publication number)：1996264404
Application date： Mar. 28, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：
【要約】【目的】 ヘリウムなど雰囲気ガスの利用効率を高めることで、ランニングコストの低減をはかった処理システムの提供する。【構成】 露光処理を行う第1処理チャンバ101と、レジスト塗布・現像処理を行う第2の処理チャンバ130と、第1の処理チャンバ101使用した雰囲気ガスを第2処理チャンバ130に導入して再利用する。そして、第2処理チャンバ130で使用した雰囲気ガスを再び第1処理チャンバ101に循環させる。循環する雰囲気ガスの少なくとも一部はガス精製器112aで精製して純度を向上させる。
Claim (excerpt)：
第1の処理を行う第1処理チャンバと、第2の処理を行う第2の処理チャンバと、該第1の処理チャンバ使用した雰囲気ガスを該第2処理チャンバに導入して再利用する手段を有することを特徴とする処理システム。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/02 Z
, H01L 21/30 531 A
