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J-GLOBAL ID：200903079353276450

水処理方法及び装置

Inventor：
高橋 和義

About 高橋 和義


Applicant, Patent owner：
住友重機械工業株式会社

About 住友重機械工業株式会社


Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998279763
Publication number (International publication number)：2000107753
Application date： Oct. 01, 1998
Publication date： Apr. 18, 2000
Summary：
【要約】【課題】 被処理水を浄化する能力を向上させうる水処理方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の水処理方法は、光出射源7が浸漬された処理槽3の被処理水1中に光触媒微粒子4を存在させ、光出射源7から発せられる光を光触媒4に照射して被処理水1を浄化する水処理方法において、被処理水1中に光触媒4を付着させた浮遊固体5を存在させ、被処理水1にガスを供給して被処理水1、浮遊固体5を流動化させ、光出射源7の汚れを防止しつつ被処理水を処理する構成である。この場合、被処理水1にガスを供給すると、光触媒4を付着させた浮遊固体5および被処理水1が流動化され、浮遊固体5の衝突で光出射源7への付着物が効果的に剥離され、絶えずきれいな状態に保持される。従って、光出射源7からの光が光触媒4に長期間十分に照射される。
Claim (excerpt)：
光出射源が浸漬された処理槽の被処理水中に光触媒微粒子を存在させ、前記光出射源から発せられる光を前記光触媒微粒子に照射して前記被処理水を浄化する水処理方法において、前記被処理水中に前記光触媒微粒子を付着させた浮遊固体を存在させ、前記被処理水にガスを供給して前記被処理水および前記浮遊固体を流動化させ、前記光出射源の汚れを防止しつつ前記被処理水を処理することを特徴とする水処理方法。
IPC (3)：
C02F 1/30 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/36
FI (3)：
C02F 1/30 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/36
F-Term (19)：
4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037AB18 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037BA26 ,  4D037BB04 ,  4D037BB05 ,  4D037CA02 ,  4D037CA12 ,  4G069AA04 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA22B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069CA05 ,  4G069CA15 ,  4G069DA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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