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J-GLOBAL ID：200903079463757012

低反射フィルム

Inventor：
新實 高宏

About 新實 高宏

, 
橋本 浩征

About 橋本 浩征

, 
高尾 知宏

About 高尾 知宏


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 金山 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002226789
Publication number (International publication number)：2004069867
Application date： Aug. 05, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：
【課題】各種ディスプレイ等に使用して透明基板を通して認識する文字や図形画像などの視覚情報を観察する場合に、表面からの入射光が、特に透明基材フィルムとこれに隣接する層との界面で反射される反射光が関与することにより発生する干渉ムラ(色ムラ)を抑制することができると共に面ギラの問題とならない低反射フィルムを提供することである。【解決手段】一方の面に0.05〜0.15μmの範囲の表面粗さからなる微細凹凸面を有する透明基材フィルムの前記微細凹凸面にハードコート層と反射防止層とが順に積層され、前記ハードコート層の屈折率が前記反射防止層の屈折率よりも高く形成されていることを特徴とする低反射フィルム。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
一方の面に0.05〜0.15μmの範囲の表面粗さからなる微細凹凸面を有する透明基材フィルムの前記微細凹凸面にハードコート層と反射防止層とが順に積層され、前記ハードコート層の屈折率が前記反射防止層の屈折率よりも高く形成されていることを特徴とする低反射フィルム。
IPC (5)：
G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  C08J7/04 ,  G02B1/10 ,  H01J29/89
FI (6)：
G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  C08J7/04 K ,  C08J7/04 Z ,  H01J29/89 ,  G02B1/10 Z
F-Term (74)：
2K009AA01 ,  2K009AA12 ,  2K009AA15 ,  2K009BB24 ,  2K009CC02 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009EE03 ,  4F006AA35 ,  4F006AB16 ,  4F006AB64 ,  4F006AB74 ,  4F006BA02 ,  4F006BA07 ,  4F006BA14 ,  4F006CA05 ,  4F006CA08 ,  4F006DA04 ,  4F006EA03 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01D ,  4F100AK12 ,  4F100AK25 ,  4F100AK41 ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA10E ,  4F100BA25 ,  4F100DD07B ,  4F100DD07D ,  4F100DE01D ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ542 ,  4F100EJ60 ,  4F100EJ602 ,  4F100EJ86 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JG03 ,  4F100JG04D ,  4F100JK12C ,  4F100JK12E ,  4F100JK14 ,  4F100JK14B ,  4F100JM02C ,  4F100JM02D ,  4F100JM02E ,  4F100JN01A ,  4F100JN01D ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18E ,  4F100JN30D ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  4F100YY00E ,  5C032AA02 ,  5C032EE17 ,  5C032EF01 ,  5C032EF05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (4)
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