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J-GLOBAL ID：200903079510347170

フォトレジストフィルム

Inventor：
日 向 淳 悦

About 日 向 淳 悦


Applicant, Patent owner：
日本合成化学工業株式会社

About 日本合成化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993303563
Publication number (International publication number)：1995134400
Application date： Nov. 08, 1993
Publication date： May. 23, 1995
Summary：
【要約】【目的】 感光性樹脂層と支持体フィルムの接着性が良好で、特に高密度プリント回路基板の製造効率を向上することができるフォトレジストフィルムを提供すること。【構成】 少なくとも感光性樹脂層及び支持体フィルムよりなり、支持体フィルムの感光性樹脂層側の表面抵抗率が108〜1012Ωであるフォトレジストフィルム。
Claim (excerpt)：
少なくとも感光性樹脂層及び支持体フィルムよりなり、支持体フィルムの感光性樹脂層側の表面抵抗率が108〜1012Ωであることを特徴とするフォトレジストフィルム。
IPC (3)：
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/11 503 ,  H05K 3/06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
  • 特開昭61-041143
  • 感光性転写シート及びレジストパターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-213462   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 特開昭61-193148
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