Pat

J-GLOBAL ID：200903079847376423

X線源の出力を制御し、かつ、最適化するための方法とその装置

Inventor： キュートリアンスキー、オスカー ,  ロウズヴェアー、トーマス ,  シマーク、トーマス ,  トムシク、シリル
Applicant, Patent owner： コンティネンタル エックス-レイ コーポレーション
Agent (1)： 若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997538151
Publication number (International publication number)：2000501552
Application date： Apr. 14, 1997
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：

【要約】直線的断層撮影検査中に関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するようにX線源の出力を制御するための方法。この方法は、断層撮影走査パラメータを選択する処理過程(501、502)と、選択された断層撮影走査パラメータに少なくとも一部分は基づいて1組のX線源制御パラメータを予測する処理過程(503、504、505)と、そして関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するために上記1組のX線源制御パラメータ(508)にしたがッてX線源出力を制御する処理過程とから成る。X線源の出力を制御するための装置も開示されている。

Claim (excerpt)：

直線形断層撮影検査中に関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するようにX線源の出力を制御するための方法において、(a)断層撮影走査パラメータを選択する処理過程と、(b)前記選択された断層撮影走査パラメータに少なくとも一部分は基づいて1組のX線源制御パラメータを予測する処理過程と、そして(c)前記関連するX線レセプタに到達するX線エネルギーを最適化するために前記1組のX線源制御パラメータにしたがってX線源出力を制御する処理過程とを有する、X線エネルギーを最適化するようにX線源の出力を制御するための方法。

IPC (3)：

H05G 1/46 ,  A61B 6/02 301 ,  G21K 5/02

FI (3)：

H05G 1/46 ,  A61B 6/02 301 D ,  G21K 5/02 X

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特公昭58-020117
  
• 特開昭63-274095
  
• 特開昭62-186847
  
• 特開平3-143430
  
• 断層撮影装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-123535   Applicant：株式会社島津製作所
• 特開昭63-186627