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J-GLOBAL ID:200903079859058931

III族窒化物系化合物半導体素子及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小西 富雅
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999092948
Publication number (International publication number):2000286450
Application date: Mar. 31, 1999
Publication date: Oct. 13, 2000
Summary:
【要約】【目的】 基板とIII族窒化物系化合物半導体層との間の熱膨張率の相違によりIII族窒化物系化合物半導体層を成長させるときの高温でIII族窒化物系化合物半導体層にストレスが蓄積される。【構成】 III族窒化物系化合物半導体がその上に成長しない材料からなる離隔層を基板上に形成し、該離隔層で覆われていない基板の表面上へ、離隔層で離隔された状態を維持して、III族窒化物系化合物半導体を成長させる。
Claim (excerpt):
基板表面に第一の環境部分と第二の環境部分とを形成し、前記第一の環境部分の上に素子を構成する複数のIII族窒化物系化合物半導体層を積層する、ことを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体素子の製造方法。
IPC (4):
H01L 33/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/10 ,  H01S 5/343
FI (4):
H01L 33/00 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/10 A ,  H01S 3/18 677
F-Term (79):
5F041AA40 ,  5F041AA41 ,  5F041CA05 ,  5F041CA23 ,  5F041CA33 ,  5F041CA34 ,  5F041CA35 ,  5F041CA37 ,  5F041CA40 ,  5F041CA46 ,  5F041CA49 ,  5F041CA57 ,  5F041CA65 ,  5F041CA66 ,  5F041CA74 ,  5F041CA76 ,  5F045AA03 ,  5F045AA04 ,  5F045AA05 ,  5F045AB09 ,  5F045AB14 ,  5F045AC07 ,  5F045AC08 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AD14 ,  5F045AF01 ,  5F045AF03 ,  5F045AF04 ,  5F045AF05 ,  5F045AF07 ,  5F045AF09 ,  5F045AF11 ,  5F045AF12 ,  5F045AF13 ,  5F045BB11 ,  5F045BB12 ,  5F045BB13 ,  5F045BB16 ,  5F045CA01 ,  5F045CA05 ,  5F045CA09 ,  5F045CA10 ,  5F045CA12 ,  5F045CA13 ,  5F045DA51 ,  5F045DA52 ,  5F045DA53 ,  5F045DA54 ,  5F045DA55 ,  5F045DA57 ,  5F045DB01 ,  5F045DB02 ,  5F049MA04 ,  5F049MA13 ,  5F049MB07 ,  5F049MB12 ,  5F049NA08 ,  5F049NA20 ,  5F049PA04 ,  5F049PA14 ,  5F049PA20 ,  5F049QA16 ,  5F049SS03 ,  5F049SS04 ,  5F049SS09 ,  5F049SS10 ,  5F073AA73 ,  5F073AA74 ,  5F073CA07 ,  5F073CB02 ,  5F073CB04 ,  5F073CB05 ,  5F073CB07 ,  5F073CB19 ,  5F073DA05 ,  5F073DA06 ,  5F073DA22 ,  5F073EA29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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