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J-GLOBAL ID:200903079901277134

リチウム2次電池用陰極薄膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 八田 幹雄 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001353330
Publication number (International publication number):2002198037
Application date: Nov. 19, 2001
Publication date: Jul. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 充放電サイクル特性が改善されたリチウム2次電池用陰極薄膜を提供する。【解決手段】 集電体とその上部に形成された陰極活物質層とを具備するリチウム2次電池用陰極薄膜であって、前記陰極活物質層は、シリコン層と銀層とが積層された多層薄膜よりなることを特徴とするリチウム2次電池用陰極薄膜である。
Claim (excerpt):
集電体とその上部に形成された陰極活物質層とを具備するリチウム2次電池用陰極薄膜であって、前記陰極活物質層は、シリコン層と銀層とが積層された多層薄膜よりなることを特徴とするリチウム2次電池用陰極薄膜。
IPC (4):
H01M 4/02 ,  H01M 4/38 ,  H01M 4/62 ,  H01M 10/40
FI (4):
H01M 4/02 D ,  H01M 4/38 Z ,  H01M 4/62 Z ,  H01M 10/40 Z
F-Term (24):
5H029AJ05 ,  5H029AK02 ,  5H029AK03 ,  5H029AL11 ,  5H029AM12 ,  5H029BJ12 ,  5H029BJ13 ,  5H029DJ08 ,  5H029DJ11 ,  5H029EJ01 ,  5H029HJ01 ,  5H029HJ04 ,  5H050AA07 ,  5H050BA17 ,  5H050CA02 ,  5H050CA07 ,  5H050CB11 ,  5H050DA10 ,  5H050EA02 ,  5H050FA02 ,  5H050FA04 ,  5H050FA11 ,  5H050HA01 ,  5H050HA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 非水二次電池
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-165501   Applicant:富士写真フイルム株式会社
  • 半導体基板搭載型二次電池
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-102625   Applicant:日本電気株式会社

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