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J-GLOBAL ID：200903079912422730

培養皮膚シワモデル、その製造方法及び抗シワ薬剤評価方法

Inventor： 天野 聡 ,  小倉 有紀 ,  西山 敏夫
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (6)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  福本 積 ,  古賀 哲次 ,  渡辺 陽一 ,  中村 和広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007318806
Publication number (International publication number)：2009139335
Application date： Dec. 10, 2007
Publication date： Jun. 25, 2009
Summary：

【課題】本発明は人工真皮シワモデルの提供を課題とする。【解決手段】本発明は、線維芽細胞を含む収縮コラーゲンゲルでシワ形成された人工真皮シワモデルであって、培養液中で少なくとも3日間にわたり連続屈曲ストレス負荷にかけられたことによりシワ形成を含む真皮の変形が誘導されたことを特徴とする、人工真皮シワモデル、その製造方法及び抗シワ薬剤評価方法を提供する。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

線維芽細胞を含む収縮コラーゲンゲルでシワ形成された人工真皮シワモデルであって、培養液中で少なくとも3日間にわたり連続屈曲ストレス負荷にかけられたことによりシワ形成を含む真皮の変形が誘導されたことを特徴とする、人工真皮シワモデル。

IPC (2)：

G01N 33/50 ,  G01N 33/15

FI (3)：

G01N33/50 Q ,  G01N33/50 Z ,  G01N33/15 Z

F-Term (7)：

2G045AA40 ,  4B065AA90X ,  4B065BC46 ,  4B065BD05 ,  4B065BD39 ,  4B065BD42 ,  4B065CA46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 少なくとも一のRhoAキナーゼの生成及び/又は活性化インヒビターの、皮膚を脱収縮させ及び/又は表情を弛緩させる薬剤としての美容的使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-107104   Applicant：ロレアル
• 顔画像合成装置、顔画像合成方法および顔画像合成プログラム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-318654   Applicant：株式会社国際電気通信基礎技術研究所
• シワ改善剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-288160   Applicant：株式会社ナリス化粧品
• ジンセノサイドF1または化合物Kを含有する皮膚外用剤組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-550920   Applicant：株式會社アモーレパシフィック
• ADAM活性阻害剤のスクリーニング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-335816   Applicant：株式会社資生堂
• 特開平4-029916
  
• 特開平4-029916
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• THE JOURNAL OF BIOLOGICAL CHEMISTRY, 1994, vol.269 no.45, pp.28193-28199