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J-GLOBAL ID：200903079937876069

金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法

Inventor： 水田 進 ,  土屋 哲男 ,  渡邊 昭雄 ,  今井 庸二 ,  山口 巌 ,  熊谷 俊弥 ,  真部 高明 ,  新納 弘之 ,  矢部 明
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999308644
Publication number (International publication number)：2001031417
Application date： Oct. 29, 1999
Publication date： Feb. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】従来塗布熱分解法として知られている高温下で熱処理することなく、金属酸化物の製造方法の提供。【解決手段】金属有機化合物(金属有機酸塩、金属アセチルアセトナート錯体、炭素数6以上の有機基を有する金属アルコキシド)を溶媒に溶解させて溶液状とし、これを基板に塗布した後に、乾燥させ、波長400nm以下のレ-ザ-光を照射することにより基板上に金属酸化物を形成することを特徴とする金属酸化物の製造方法。

Claim (excerpt)：

金属有機化合物を溶媒に溶解させて溶液状とし、これを基板に塗布した後に、乾燥させ、波長400nm以下のレ-ザ-光を照射することにより基板上に金属酸化物を形成することを特徴とする金属酸化物の製造方法。

IPC (2)：

C01G 1/02 ,  C23C 18/14

FI (2)：

C01G 1/02 ,  C23C 18/14

F-Term (10)：

4K022BA06 ,  4K022BA09 ,  4K022BA10 ,  4K022BA14 ,  4K022BA15 ,  4K022BA17 ,  4K022BA21 ,  4K022BA26 ,  4K022BA33 ,  4K022DA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平1-294506
  
• 金属酸化物薄膜の形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-345322   Applicant：株式会社関西新技術研究所