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J-GLOBAL ID:200903080172241807

溶存汚濁物質のモニタリング方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田中 政浩
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008085929
Publication number (International publication number):2009236831
Application date: Mar. 28, 2008
Publication date: Oct. 15, 2009
Summary:
【課題】 懸濁性物質を含有する水の水質を懸濁性物質を除去せずに、濁度等を測定する簡便な方法を提供する。 【解決手段】 上記課題は、溶存汚濁物質を励起する波長の光を試料水に照射し、試料水から発生する蛍光強度を測定するとともに、照射した光のレイリー散乱光を測定することを特徴とする、懸濁性物質を含有する水の溶存汚濁物質の測定方法によって解決される。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
溶存汚濁物質を励起する波長の光を試料水に照射し、試料水から発生する蛍光強度を測定するとともに、照射した光のレイリー散乱光強度を測定することを特徴とする、懸濁性物質を含有する水の溶存汚濁物質の測定方法
IPC (1):
G01N 21/64
FI (1):
G01N21/64 Z
F-Term (10):
2G043AA01 ,  2G043CA04 ,  2G043EA01 ,  2G043EA14 ,  2G043GA02 ,  2G043GA04 ,  2G043GA07 ,  2G043HA02 ,  2G043JA02 ,  2G043LA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 水質検査方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-092612   Applicant:株式会社東芝
  • 水質測定装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-259560   Applicant:東芝エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
  • 蛍光分析水質測定システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-282179   Applicant:東芝エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
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Cited by examiner (2)

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