高純度COの製造方法及び製造装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：渡邉一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998247318
Publication number (International publication number)：2000070655
Application date： Sep. 01, 1998
Publication date： Mar. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 H2とCOを主成分とする合成ガス等の混合ガスからH2のみを完全に分離することができ、リサイクル工程無しで、99vol%以上の高純度なCOを得ることができる高純度COの製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】 H2とCOを主成分とする混合ガスから、ガス分離膜を用いてCOを分離精製することによるCOの製造方法であり、ガス分離膜がH2選択透過能を有する金属膜を用いる。混合ガスが導入される容器2と、容器2の内側に配設され、H2選択透過能を有する金属膜1で容器2の混合ガスから隔離されるように形成され、金属膜1の透過側において混合ガスの流れと対向流となるようにO2含有ガスを流すスイープガス流路4と、容器2に混合ガスを供給する入口部6と、混合ガスから分離・精製されたCOガスを容器2から取り出す出口部8とを備えるCO製造装置である。

Claim (excerpt)：

H2とCOを主成分とする混合ガスから、ガス分離膜を用いてCOを分離精製することによるCOの製造方法であって、上記ガス分離膜が、H2選択透過能を有する金属膜であることを特徴とする高純度COの製造方法。

IPC (3)：

B01D 53/22 , B01D 71/02 500 , C01B 31/18

FI (3)：

B01D 53/22 , B01D 71/02 500 , C01B 31/18 B

F-Term (29)：

4D006GA41 , 4D006HA28 , 4D006KA17 , 4D006KA64 , 4D006KA72 , 4D006KB30 , 4D006KE02P , 4D006KE02Q , 4D006KE07Q , 4D006KE13P , 4D006KE16Q , 4D006MA02 , 4D006MA06 , 4D006MB06 , 4D006MC02 , 4D006MC02X , 4D006MC03 , 4D006NA45 , 4D006NA63 , 4D006PA03 , 4D006PA04 , 4D006PB18 , 4D006PB20 , 4D006PB66 , 4D006PB67 , 4D006PC80 , 4G046JB06 , 4G046JB12 , 4G046JC07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

水素製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-055864 Applicant：東京瓦斯株式会社, 三菱重工業株式会社
特開昭52-110273
食品の簡易真空包装方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-163938 Applicant：山峰國彦

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