耐汚染性に優れた選択的分離膜製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：小谷悦司 , 植木久一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002187857
Publication number (International publication number)：2004025102
Application date： Jun. 27, 2002
Publication date： Jan. 29, 2004
Summary：

【課題】耐汚染性に優れた選択的分離膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の耐汚染性に優れたポリアミド逆浸透複合膜製造方法は、多孔性支持体上にポリアミド薄膜を形成した後、更に該ポリアミド薄膜上に親水性コートを行なって親水性のポリアミド逆浸透複合膜を製造する方法において、該親水性コートが、少なくとも2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物をポリアミド複合膜にコートした後、エポキシ化合物を架橋させて非水溶性高分子を形成させるものであることを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

多孔性支持体上にポリアミド薄膜を形成した後、更に該ポリアミド薄膜上に親水性コートを行なって親水性のポリアミド逆浸透複合膜を製造する方法において、該親水性コートが、少なくとも2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物をポリアミド複合膜にコートした後、エポキシ化合物を架橋させて非水溶性高分子を形成させるものであることを特徴とする耐汚染性に優れたポリアミド逆浸透複合膜製造方法。

IPC (11)：

B01D69/12 , B01D61/02 , B01D61/14 , B01D71/26 , B01D71/30 , B01D71/42 , B01D71/46 , B01D71/56 , B01D71/64 , B01D71/68 , C08J9/36

FI (11)：

B01D69/12 , B01D61/02 , B01D61/14 , B01D71/26 , B01D71/30 , B01D71/42 , B01D71/46 , B01D71/56 , B01D71/64 , B01D71/68 , C08J9/36

F-Term (52)：

4D006GA03 , 4D006GA04 , 4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006MA03 , 4D006MA06 , 4D006MB09 , 4D006MC22X , 4D006MC23X , 4D006MC25X , 4D006MC29 , 4D006MC37X , 4D006MC39X , 4D006MC50X , 4D006MC54X , 4D006MC58X , 4D006MC59X , 4D006MC61X , 4D006MC62X , 4D006MC85 , 4D006NA05 , 4D006NA10 , 4D006NA44 , 4D006NA46 , 4D006NA49 , 4D006NA54 , 4D006NA60 , 4D006NA64 , 4D006PA01 , 4D006PB03 , 4D006PB04 , 4D006PB12 , 4D006PB13 , 4F074AA17 , 4F074AA24 , 4F074AA48 , 4F074AA49 , 4F074AA71 , 4F074AA74 , 4F074AA87 , 4F074AF01 , 4F074AF02 , 4F074CE01 , 4F074CE02 , 4F074CE14 , 4F074CE15 , 4F074CE43 , 4F074CE58 , 4F074CE65 , 4F074CE98 , 4F074DA20 , 4F074DA43

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

複合半透膜およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-291787 Applicant：東レ株式会社
逆浸透複合膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-036438 Applicant：日東電工株式会社
特開昭63-287503

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