簡易でかつ再現性に富む自立ゼオライト膜の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮本晴視
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999274565
Publication number (International publication number)：2001089134
Application date： Sep. 28, 1999
Publication date： Apr. 03, 2001
Summary：

【要約】【目的】簡易でかつ再現性に富む膜製造方法を提供すること【構成】ゼオライト粉末を有機溶媒又は水に分散させ、10〜1000Vの電圧を印加することにより基板の表面に前記ゼオライト粉末を泳動電着させ、該ゼオライト粉末が電着した基板(B.P)表面に該ゼオライトの堆積層を形成し,該ゼオライトの堆積層が形成された基板を,アルカリ源,アルミナ源,シリカ源をイオン交換水に加えて調製した原料溶液(S.S)中に、該原料溶液の温度を25°C乃至220°Cに保持した状態で浸し、該堆積したゼオライトの堆積層を水熱緻密固化して膜化し、次いで前記緻密固化ゼオライト膜(Z.M)を前記基板から剥離して、前記ゼオライトの自立膜を形成する方法。

Claim (excerpt)：

ゼオライト粉末を有機溶媒又は水に分散させ、10〜1000Vの電圧を印加することにより基板の表面に前記ゼオライト粉末を泳動電着させ、該ゼオライト粉末が電着した基板表面に該ゼオライトの堆積層を形成し,該ゼオライトの堆積層が形成された基板を、アルカリ源、アルミナ源、シリカ源を水に加えて調製した原料溶液中に、該原料溶液の温度を25°C乃至220°Cに保持した状態で浸し、堆積したゼオライトの堆積層を水熱緻密固化して膜化し、次いで前記緻密固化ゼオライト膜を前記基板から剥離して、前記ゼオライトの自立膜を形成する方法。

IPC (2)：

C01B 39/02 , B01J 19/00

FI (2)：

C01B 39/02 , B01J 19/00 N

F-Term (27)：

4G073BA04 , 4G073BA57 , 4G073BA63 , 4G073BD05 , 4G073BD18 , 4G073CZ02 , 4G073CZ04 , 4G073CZ05 , 4G073CZ07 , 4G073CZ13 , 4G073FB01 , 4G073FB02 , 4G073FB04 , 4G073FB24 , 4G073FB26 , 4G073FC18 , 4G073FC25 , 4G073FC30 , 4G073FD30 , 4G073GA11 , 4G073UA06 , 4G075AA24 , 4G075BB08 , 4G075BC10 , 4G075CA02 , 4G075CA14 , 4G075CA57

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

電気泳動を利用した抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-302850 Applicant：日新製鋼株式会社
NaX型ゼオライト膜の製膜法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-029852 Applicant：三井造船株式会社
ゼオライト結晶膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-254256 Applicant：中部電力株式会社, 日本碍子株式会社

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