Pat
J-GLOBAL ID：200903080343199197
チャックテーブルに保持された被加工物の計測装置およびレーザー加工機
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007047395
Publication number (International publication number)：2008209299
Application date： Feb. 27, 2007
Publication date： Sep. 11, 2008
Summary：
【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面高さや厚みを確実に計測することができる計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。【解決手段】被加工物を保持するチャックテーブルに保持された被加工物の高さを計測する計測装置であって、白色光源と白色光を音響光学変更手段によって分光された回折光の一部の波長の光を通過せしめる第1のピンホールマスクと、第1のピンホールマスクを通過した光を集光して被加工物に照射する色収差レンズと、被加工物に照射された光の反射光を偏向するビームスプリッターと、ビームスプリッターによって偏向された反射光を通過せしめる第2のピンホールマスクと、第2のピンホールマスクを通過した反射光の受光信号を出力する受光素子と、音響光学偏向手段の制御信号と受光素子からの受光信号に基いて被加工物の高さ位置を求める制御手段とを具備している。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
加工機に装備される被加工物を保持するチャックテーブルに保持された被加工物の高さを計測する計測装置であって、
白色光を発光する白色光源と、白色光を回折光に分光するとともに分光された回折光の束を電圧が印加されることにより所定角度に渡って揺動する音響光学変更手段と、該音響光学変更手段によって分光された回折光の一部の波長の光を通過せしめる第1のピンホールマスクと、該第1のピンホールマスクを通過した光を集光して該チャックテーブルに保持された被加工物に照射する色収差レンズと、該第1のピンホールマスクと該色収差レンズとの間に配設され被加工物に照射された光の反射光を偏向するビームスプリッターと、該ビームスプリッターによって偏向された反射光を通過せしめる第2のピンホールマスクと、該第2のピンホールマスクを通過した反射光を受光し受光した反射光の光強度に対応した受光信号を出力する受光素子と、該音響光学変更手段に制御信号を出力するとともに該受光素子からの受光信号に基いてチャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置を求める制御手段と、を具備し、
該制御手段は、該音響光学変更手段に印加される電圧と該第1のピンホールマスクを通過する波長との関係を設定した第1の制御マップと、該色収差レンズによって集光された光の波長と焦点距離との関係を設定した第2の制御マップを格納するメモリを備えており、該受光素子が検出した光強度のピーク値に対応する該音響光学変更手段に印加された電圧値を求め、該電圧値を該第1の制御マップに照合して該第1のピンホールマスクを通過する波長を求め、該第1のピンホールマスクを通過する波長を該第2の制御マップに照合してチャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置を計測する、
ことを特徴とするチャックテーブルに保持された被加工物の計測装置。
IPC (3)：
G01B 11/02
, G01B 11/06
, B23K 26/067
G01B11/02 Z
, G01B11/06 Z
, B23K26/067
2F065AA02
, 2F065AA20
, 2F065AA24
, 2F065AA30
, 2F065CC17
, 2F065CC19
, 2F065FF04
, 2F065FF10
, 2F065FF41
, 2F065FF48
, 2F065GG21
, 2F065GG24
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL10
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2F065LL57
, 2F065MM03
, 2F065MM07
, 2F065MM16
, 2F065PP03
, 2F065PP12
, 2F065QQ24
, 2F065QQ29
, 2F065QQ38
, 2F065UU07
, 4E068AF00
, 4E068CA11
, 4E068CC06
, 4E068DA10
