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J-GLOBAL ID:200903080387809910
溶存気体濃度増加装置及び溶存気体濃度増加方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
開口 宗昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000369677
Publication number (International publication number):2002172317
Application date: Dec. 05, 2000
Publication date: Jun. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 水中の溶存気体濃度を増加することができ、しかも増加した溶存気体濃度を長時間にわたって持続することのできる溶存気体濃度増加装置を提供すること。【解決手段】 本発明の溶存気体濃度増加装置は、水槽、該水槽の下部に設けられた気体導入口及び該気体導入口の上部に設けられたプレートを備えており、前記プレートが多数の孔を有し水平方向に振動可能になされていることを特徴とする。
Claim (excerpt):
水槽、該水槽の下部に設けられた気体導入口及び該気体導入口の上部に設けられたプレートを備えた溶存気体濃度増加装置であって、前記プレートが多数の孔を有し水平方向に振動可能になされていることを特徴とする溶存気体濃度増加装置。
IPC (10):
B01F 1/00
, A01K 63/00
, B01D 71/02 500
, B01F 5/06
, B01F 11/00
, C02F 1/68 510
, C02F 1/68
, C02F 1/68 520
, C02F 1/68 530
, C02F 1/68 540
FI (10):
B01F 1/00 A
, A01K 63/00 B
, B01D 71/02 500
, B01F 5/06
, B01F 11/00 Z
, C02F 1/68 510 B
, C02F 1/68 510 J
, C02F 1/68 520 B
, C02F 1/68 530 A
, C02F 1/68 540 Z
F-Term (22):
2B104CA01
, 2B104CA09
, 2B104CB23
, 2B104EB01
, 2B104EB03
, 2B104EB18
, 4D006GA41
, 4D006KA64
, 4D006KA72
, 4D006KB30
, 4D006MB14
, 4D006MC03
, 4D006MC03X
, 4D006PA02
, 4D006PB17
, 4D006PB63
, 4D006PC71
, 4D006PC80
, 4G035AA01
, 4G035AC26
, 4G035AE13
, 4G036AB30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特開平3-242297
-
微細気泡発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-217146
Applicant:東陶機器株式会社
-
オゾン水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-063549
Applicant:トキコ株式会社
-
ガス溶解水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-103997
Applicant:オルガノ株式会社
-
オゾン水製造方法及び製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-215408
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
-
特開平2-222636
-
オゾン水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-124267
Applicant:株式会社安川電機
-
マイクロバブルの発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-032728
Applicant:加藤洋治, 石川島播磨重工業株式会社
-
特開平2-245230
-
特開昭57-171414
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