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J-GLOBAL ID：200903080391744857

加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜およびその形成方法

Inventor：
西森 秀樹

About 西森 秀樹

, 
橋本 明

About 橋本 明

, 
多田 清志

About 多田 清志


Applicant, Patent owner：
昭和アルミニウム株式会社

About 昭和アルミニウム株式会社


Agent (1)： 岸本 瑛之助 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998183631
Publication number (International publication number)：2000017228
Application date： Jun. 30, 1998
Publication date： Jan. 18, 2000
Summary：
【要約】【課題】 金属、プラスチックス等のあらゆる基材の表面に、加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜を形成する。加工性に優れた基材であれば、プレコートにより光触媒皮膜の形成を可能とする。【解決手段】 光触媒皮膜は、式RSi(X)3 で表される3官能シランと、式Si(X)4 で表される4官能シランとの加水分解・重縮合物と、光触媒としての二酸化チタン粒子とよりなる。光触媒皮膜の形成方法は、上記3官能シランと4官能シランとを、アルコールもしくはその他の有機溶媒、水、および酸触媒の存在下で、加水分解・重縮合して光触媒皮膜形成用ゾルを形成し、この光触媒皮膜形成用ゾルを光触媒としての二酸化チタン粒子と混合するか、または上記シラン化合物の反応開始時から二酸化チタン粒子を混合し、二酸化チタン粒子含有ゾルを金属板等の基材に塗布し、乾燥するか、または乾燥後さらに500°C以下の温度で熱処理する。
Claim (excerpt)：
式RSi(X)3 (式中、Rはアルキル基、フェニル基、またはビニル基よりなる炭化水素基、Xはアルコキシル基、またはハロゲンである)で表される3官能シランと、式Si(X)4 (式中、Xはアルコキシル基、またはハロゲンである)で表される4官能シランとの加水分解・重縮合物と、光触媒としての二酸化チタン粒子とよりなる、加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜。
IPC (3)：
C09D183/04 ,  A61L 9/00 ,  C09K 3/00
FI (3)：
C09D183/04 ,  A61L 9/00 C ,  C09K 3/00 S
F-Term (25)：
4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080CC01 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ06 ,  4C080KK08 ,  4C080MM02 ,  4C080NN29 ,  4C080QQ03 ,  4J038DL051 ,  4J038DL052 ,  4J038DL071 ,  4J038DL072 ,  4J038HA156 ,  4J038HA216 ,  4J038JA18 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA20 ,  4J038LA06 ,  4J038NA02 ,  4J038NA03 ,  4J038NA23 ,  4J038NA27 ,  4J038PC02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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