熱プラズマによる加熱処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：八島正人 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996356652
Publication number (International publication number)：1998189291
Application date： Dec. 27, 1996
Publication date： Jul. 21, 1998
Summary：

【要約】【課題】物質合成や粒体の球状化などに使用する、低温の均一温度領域の広いプラズマフレームが得られる熱プラズマによる加熱処理装置。【解決手段】熱プラズマにより被処理材料を加熱処理する装置において、熱プラズマを発生する熱プラズマトーチ11と、該プラズマトーチ11により発生した熱プラズマ1を加熱制御するプラズマフレーム炉21と、被処理材料を加熱反応させる反応塔31と、前記被処理材料を前記反応塔内に供給する供給手段41とを備える。

Claim (excerpt)：

熱プラズマにより被処理材料を加熱処理する装置において、熱プラズマを発生する熱プラズマトーチと、該プラズマトーチにより発生した熱プラズマを加熱制御するプラズマフレーム炉と、被処理材料を加熱反応させる反応塔と、前記被処理材料を前記反応塔内に供給する供給手段とを備えたことを特徴とする熱プラズマによる加熱処理装置。

IPC (8)：

H05H 1/34 , B22F 1/00 , B22F 9/14 , C01B 33/02 , C09K 11/08 , C23C 4/12 , D06M 10/00 , H05B 7/00

FI (9)：

H05H 1/34 , B22F 1/00 A , B22F 9/14 Z , C01B 33/02 E , C09K 11/08 A , C23C 4/12 , D06M 10/00 , H05B 7/00 Z , D06M 10/00 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

蛍光体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-270222 Applicant：株式会社東芝, 高周波熱錬株式会社
特開昭63-198299
特開平2-203932

Show all

Return to Previous Page