2,2’-ジ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)の製造法、該化合物及び該化合物の使用

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003409406
Publication number (International publication number)：2004224790
Application date： Dec. 08, 2003
Publication date： Aug. 12, 2004
Summary：

【課題】低温の使用、即ち冷却混合物又は外部冷却のための同様のものを省略し、保護ガス技術なしで空気下での実行を可能にし、例えばエチレン架橋上で官能基置換された2,2’-ジ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)又は別の置換されていてもよい他の2,2’-ジ(3,4-アルキレンジオキシチオフェン)を製造するための幅広い適用可能性を提供する。【解決手段】一般式(II)の化合物を脱水素剤と反応させることによる、2,2’-ジ(3,4-アルキレンジオキシチオフェン)の製造法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

一般式(I)

IPC (3)：

C07D519/00 , C08G61/12 , H01L51/00

FI (3)：

C07D519/00 , C08G61/12 , H01L29/28

F-Term (7)：

4C072MM08 , 4C072UU08 , 4J032BA04 , 4J032BA05 , 4J032BB01 , 4J032BB03 , 4J032BC21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-068622
光電変換素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-291395 Applicant：富士写真フイルム株式会社
チオフェン化合物及び導電性高分子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-012766 Applicant：工業技術院長, スタンレー電気株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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