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J-GLOBAL ID：200903080720700092

微小構造体の製造方法および装置

Inventor：
高橋 睦也

About 高橋 睦也

, 
山田 高幸

About 山田 高幸


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 平田 忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000116019
Publication number (International publication number)：2001295077
Application date： Apr. 18, 2000
Publication date： Oct. 26, 2001
Summary：
【要約】【課題】 形状精度が良好な微小構造体を製造することが可能な微小構造体の製造方法および装置を提供する。【解決手段】 基板1上に離型層2を介して複数の薄膜30を形成したパターン基板31と対向ステージ6上の対向基板62を互いに対向しない位置に配置し、対向基板62および薄膜30の表面にArガス7を照射して清浄化する。x-y-θステージ9を移動させて、対向基板62とパターン基板31の薄膜30が対向するように位置合わせする。zステージ60によって対向ステージ6を下降させて対向基板62と薄膜30とを接合する。対向ステージ6を上昇させると、基板1上の薄膜30は対向基板62側に転写される。
Claim (excerpt)：
基板上に形成された所定の2次元パターンを有する複数の薄膜を、対向するステージ上に順次転写、積層して微小構造体を製造する方法において、前記基板と前記ステージを互いに対向しない第1の位置に配置し、前記第1の位置で前記基板上の前記薄膜および前記ステージ側の表面に粒子ビームを照射し、前記基板と前記ステージを互いに対向する第2の位置に配置し、前記第2の位置で前記基板と前記ステージとの接離動作によって前記基板上の前記薄膜を前記ステージ側に転写することを特徴とする微小構造体の製造方法。
IPC (3)：
C23C 28/00 ,  B81C 1/00 ,  C23C 26/00
FI (4)：
C23C 28/00 E ,  C23C 28/00 A ,  B81C 1/00 ,  C23C 26/00 Z
F-Term (9)：
4K044AA06 ,  4K044BA10 ,  4K044BB02 ,  4K044BB10 ,  4K044BC05 ,  4K044CA04 ,  4K044CA07 ,  4K044CA13 ,  4K044CA51
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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