ポジ型フオトレジスト組成物

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994007762
Publication number (International publication number)：1995219220
Application date： Jan. 27, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】高解像力で、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくいポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性置換フェノールノボラック樹脂と1,2-キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物において、?@該ノボラック樹脂の分散度、即ち、重量平均分子量と数平均分子量の比(Mw/Mn)が1.5〜4.0の範囲にあり、?A1分子中の総炭素数が12〜50で、且つ、1分子中に2〜8個のフェノール性水酸基を有する低分子化合物を該ノボラック樹脂に対して2〜50重量%添加し、更に?B一般式(I)〜(V)で表されるポリヒドロキシ化合物の中から選ばれた少なくとも1つのポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有する。

Claim (excerpt)：

下記?@、?A及び?Bを含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。?@重量平均分子量と数平均分子量の比が1.5〜4.0であるアルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂(但し、該ノボラツク樹脂の分子量は、標準ポリスチレンを参照液として定義されたゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって得られる値を指す)、?A該ノボラック樹脂に対して2〜50重量%の、1分子中の総炭素数が12〜50で、且つ、1分子中に2〜8個のフェノール性水酸基を有する低分子化合物、?B一般式(I)〜(V)で表されるポリヒドロキシ化合物の中から選ばれた少なくとも1つのポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステル。【化1】ここで、R1〜R10:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、アルケニル基、ニトロ基もしくはシアノ基、R11〜R14:同一でも異なっても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、アルケニル基、ニトロ基もしくはシアノ基、Z:【化2】R15〜R16:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基もしくはアルコキシ基、t:4もしくは5、a、b、c、d:1もしくは2。を表す。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-122938
特開平2-296248
特開平3-228057

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