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J-GLOBAL ID:200903080819974429

導電性高分子溶液及び導電性塗膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006203182
Publication number (International publication number):2008031204
Application date: Jul. 26, 2006
Publication date: Feb. 14, 2008
Summary:
【課題】可溶化高分子によってπ共役系導電性高分子が溶媒に溶解しているにもかかわらず、導電性が高く、しかも紫外光が照射された際の導電性低下が防止された塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と、可溶化高分子と、下記化学式(1)で表されるベンゾフェノン化合物と、溶媒とを含有することを特徴とする。(化学式(1)中、m,nは、各々独立して0〜5の整数であり、m+nは2以上である。化学式(1)におけるベンゼン環の水素原子は、置換基で置換されてもよい。)[化1]【選択図】なし
Claim (excerpt):
π共役系導電性高分子と、可溶化高分子と、下記化学式(1)で表されるベンゾフェノン化合物と、溶媒とを含有することを特徴とする導電性高分子溶液。
IPC (8):
C08L 65/00 ,  H01B 1/12 ,  C08L 101/12 ,  C08K 5/132 ,  C09D 5/24 ,  C09D 201/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 165/00
FI (8):
C08L65/00 ,  H01B1/12 Z ,  C08L101/12 ,  C08K5/132 ,  C09D5/24 ,  C09D201/00 ,  C09D7/12 ,  C09D165/00
F-Term (76):
4J002AB01X ,  4J002BB02X ,  4J002BB11X ,  4J002BB17X ,  4J002BC02X ,  4J002BC10X ,  4J002BC12X ,  4J002BD033 ,  4J002BD12X ,  4J002BD123 ,  4J002BD133 ,  4J002BD143 ,  4J002BD153 ,  4J002BE02X ,  4J002BE023 ,  4J002BE043 ,  4J002BE063 ,  4J002BF023 ,  4J002BG01X ,  4J002BG04X ,  4J002BG043 ,  4J002BG07X ,  4J002BG10X ,  4J002BJ00X ,  4J002BL02X ,  4J002BQ00X ,  4J002CC033 ,  4J002CC183 ,  4J002CD003 ,  4J002CE00W ,  4J002CE003 ,  4J002CF06X ,  4J002CF063 ,  4J002CF07X ,  4J002CF073 ,  4J002CF083 ,  4J002CH003 ,  4J002CK013 ,  4J002CK023 ,  4J002CL01X ,  4J002CL013 ,  4J002CL03X ,  4J002CL033 ,  4J002CL063 ,  4J002CM04X ,  4J002CM043 ,  4J002EJ066 ,  4J002FD116 ,  4J002GH01 ,  4J002GQ02 ,  4J002HA03 ,  4J038CB111 ,  4J038CB112 ,  4J038CG161 ,  4J038CG162 ,  4J038CK031 ,  4J038CK032 ,  4J038DB001 ,  4J038DB002 ,  4J038DC001 ,  4J038DC002 ,  4J038DD001 ,  4J038DD002 ,  4J038DG001 ,  4J038DG002 ,  4J038DH001 ,  4J038DH002 ,  4J038DJ021 ,  4J038DJ022 ,  4J038GA05 ,  4J038GA13 ,  4J038GA14 ,  4J038JA33 ,  4J038KA06 ,  4J038MA07 ,  4J038NA20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (5)
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