Pat
J-GLOBAL ID:200903080819974429
導電性高分子溶液及び導電性塗膜
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006203182
Publication number (International publication number):2008031204
Application date: Jul. 26, 2006
Publication date: Feb. 14, 2008
Summary:
【課題】可溶化高分子によってπ共役系導電性高分子が溶媒に溶解しているにもかかわらず、導電性が高く、しかも紫外光が照射された際の導電性低下が防止された塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と、可溶化高分子と、下記化学式(1)で表されるベンゾフェノン化合物と、溶媒とを含有することを特徴とする。(化学式(1)中、m,nは、各々独立して0〜5の整数であり、m+nは2以上である。化学式(1)におけるベンゼン環の水素原子は、置換基で置換されてもよい。)[化1]【選択図】なし
Claim (excerpt):
π共役系導電性高分子と、可溶化高分子と、下記化学式(1)で表されるベンゾフェノン化合物と、溶媒とを含有することを特徴とする導電性高分子溶液。
IPC (8):
C08L 65/00
, H01B 1/12
, C08L 101/12
, C08K 5/132
, C09D 5/24
, C09D 201/00
, C09D 7/12
, C09D 165/00
FI (8):
C08L65/00
, H01B1/12 Z
, C08L101/12
, C08K5/132
, C09D5/24
, C09D201/00
, C09D7/12
, C09D165/00
F-Term (76):
4J002AB01X
, 4J002BB02X
, 4J002BB11X
, 4J002BB17X
, 4J002BC02X
, 4J002BC10X
, 4J002BC12X
, 4J002BD033
, 4J002BD12X
, 4J002BD123
, 4J002BD133
, 4J002BD143
, 4J002BD153
, 4J002BE02X
, 4J002BE023
, 4J002BE043
, 4J002BE063
, 4J002BF023
, 4J002BG01X
, 4J002BG04X
, 4J002BG043
, 4J002BG07X
, 4J002BG10X
, 4J002BJ00X
, 4J002BL02X
, 4J002BQ00X
, 4J002CC033
, 4J002CC183
, 4J002CD003
, 4J002CE00W
, 4J002CE003
, 4J002CF06X
, 4J002CF063
, 4J002CF07X
, 4J002CF073
, 4J002CF083
, 4J002CH003
, 4J002CK013
, 4J002CK023
, 4J002CL01X
, 4J002CL013
, 4J002CL03X
, 4J002CL033
, 4J002CL063
, 4J002CM04X
, 4J002CM043
, 4J002EJ066
, 4J002FD116
, 4J002GH01
, 4J002GQ02
, 4J002HA03
, 4J038CB111
, 4J038CB112
, 4J038CG161
, 4J038CG162
, 4J038CK031
, 4J038CK032
, 4J038DB001
, 4J038DB002
, 4J038DC001
, 4J038DC002
, 4J038DD001
, 4J038DD002
, 4J038DG001
, 4J038DG002
, 4J038DH001
, 4J038DH002
, 4J038DJ021
, 4J038DJ022
, 4J038GA05
, 4J038GA13
, 4J038GA14
, 4J038JA33
, 4J038KA06
, 4J038MA07
, 4J038NA20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
特許第2636968号公報
-
導電性高分子コロイド水溶液の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-340962
Applicant:丸菱油化工業株式会社
-
日光暴露への安定性が向上した層配置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-530268
Applicant:アグフア-ゲヴエルト
Cited by examiner (5)
-
導電性組成物及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-076972
Applicant:信越ポリマー株式会社
-
特開平4-362044
-
特許第2636968号
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