日光暴露への安定性が向上した層配置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小田島平吉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004530268
Publication number (International publication number)：2006505099
Application date： Jul. 29, 2003
Publication date： Feb. 09, 2006
Summary：

2個のアルコキシ基が同一であるかもしくは異なることができるか又は一緒になって場合により置換されていることができるオキシ-アルキレン-オキシ架橋を示す、場合により置換されていることができる3,4-アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーと、ポリリン酸、ポリリン酸塩、チア-アルカンジカルボン酸、シクロヘキサジエン化合物及びテトロン酸誘導体;少なくとも1個のスルホ基を有するオルトジヒドロキシベンゼン化合物、式(I):HO-CH2-CH(OH)-(CH2)m-S-CH2-C(R1)(R2)-CH2-S-(CH2)n-CH(OH)-CH2-OH[式中、R1及びR2は独立してH、-OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である]に従う化合物;式(II):HO-(CH2)p-S-CH2-S-(CH2)q-OH[式中、p及びqは独立して2、3又は4である]に従う化合物;テトロン酸誘導体に加水分解され得る化合物;式(I)に従う化合物に加水分解され得る化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ-化合物ならびにスルホ-置換2-チア-アルキルベンズイミダゾール化合物より成る群から選ばれる化合物とを含有する層を含んでなる支持体上の層配置。

Claim (excerpt)：

2個のアルコキシ基が同一であるかもしくは異なることができるか又は一緒になって場合により置換されていることができるオキシ-アルキレン-オキシ架橋を示す、場合により置換されていることができる3,4-アルキレンジオキシチオフェン構造単位を含有するポリマーと、ポリリン酸、ポリリン酸塩、チア-アルカンジカルボン酸、シクロヘキサジエン化合物及びテトロン酸誘導体;少なくとも1個のスルホ基を有するオルト-ジヒドロキシベンゼン化合物、式(I): HO-CH2-CH(OH)-(CH2)m-S-CH2-C(R1)(R2)- CH2-S-(CH2)n-CH(OH)-CH2-OH (I) [式中、R1及びR2は独立してH、-OH又はアルキルであり、n及びmは独立して1、2又は3である] に従う化合物;式(II): HO-(CH2)p-S-CH2-S-(CH2)q-OH (II) [式中、p及びqは独立して2、3又は4である] に従う化合物;テトロン酸誘導体に加水分解され得る化合物;式(I)に従う化合物に加水分解され得る化合物より成る群から選ばれるポリヒドロキシ-化合物ならびにスルホ-置換2-チア-アルキル-ベンズイミダゾール化合物より成る群から選ばれる化合物とを含有する層を含んでなる支持体上の層配置。

IPC (7)：

H01B 5/14 , C08K 5/00 , C08L 65/00 , H05B 33/14 , H01L 51/50 , H01L 51/05 , H01L 29/786

FI (7)：

H01B5/14 Z , C08K5/00 , C08L65/00 , H05B33/14 Z , H05B33/22 D , H01L29/28 , H01L29/78 618B

F-Term (22)：

3K007AB12 , 3K007DB02 , 3K007DC01 , 3K007EA02 , 3K007EB00 , 3K007FA01 , 4J002CE001 , 4J002DH026 , 4J002EF086 , 4J002EL066 , 4J002EL106 , 4J002EV046 , 4J002EV066 , 4J002EV236 , 5F110AA14 , 5F110AA26 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110GG05 , 5G307GA05 , 5G307GB01 , 5G307GC02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

欧州特許出願公開第339340号明細書
欧州特許出願公開第440957号明細書
欧州特許出願公開第686662号明細書

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Cited by examiner (2)

低温で導電性ポリチオフェン層を形成するための方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-322544 Applicant：アグフア-ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
特開昭63-135453

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