プラズマディスプレイパネル用基板の製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000090640
Publication number (International publication number)：2001281876
Application date： Mar. 29, 2000
Publication date： Oct. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】プラズマディスプレイ用基板の製造において、焼成時の寸法変化によるパターン位置ズレを、容易で安価な方法で補正する方法を提供する。【解決手段】焼成時の基板寸法変化によるパターン寸法変化分を見込み、基板温度とマスク温度に差をつけて露光を行うことで、パターン寸法を所定より大きくまたは小さく補正して形成する方法およびガラス基板と熱膨張係数の異なるマスクを用いて露光することで、パターン寸法を所定より大きくまたは小さく補正して形成する方法によって達成される。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上にマスク露光により所定パターンを形成した後、基板を焼成してパターンを焼き付けるプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法において、基板温度とマスク温度に差をつけてマスク露光を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法。

IPC (3)：

G03F 7/20 501 , H01J 9/02 , H01J 11/02

FI (3)：

G03F 7/20 501 , H01J 9/02 F , H01J 11/02 B

F-Term (13)：

2H097BA02 , 2H097JA02 , 2H097LA20 , 5C027AA01 , 5C027AA10 , 5C040FA01 , 5C040GB03 , 5C040GB14 , 5C040GC19 , 5C040JA15 , 5C040JA22 , 5C040MA22 , 5C040MA26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

プラズマディスプレイパネル用基板構体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-000079 Applicant：富士通株式会社
パターン形成方法及びパターン形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-180948 Applicant：キヤノン株式会社

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