電子ビーム欠陥検査装置および欠陥検査方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上義雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998039849
Publication number (International publication number)：1999223662
Application date： Feb. 06, 1998
Publication date： Aug. 17, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】短時間に検査試料の欠陥を検出・観察できる欠陥検査装置などを提供すること。【解決手段】電子ビームを照射することにより検査試料の欠陥を検出する電子ビーム欠陥検査装置において、前記欠陥を検出する検出モードと、前記検出モードでの検出結果に基づき、前記欠陥を観察する観察モードとの少なくとも2つの動作モードを有することを特徴とする。また、観察モードでは検出モードと異なる高倍率の観察光学系で行ない、欠陥情報記憶装置、情報解析演算装置と表示工程を有する。

Claim (excerpt)：

電子ビームを照射することにより検査試料の欠陥を検出する電子ビーム欠陥検査装置において、前記欠陥を検出する検出モードと、前記検出モードでの検出結果に基づき、前記欠陥を観察する観察モードとの少なくとも2つの動作モードを有することを特徴とする電子ビーム欠陥検査装置。

IPC (4)：

G01R 31/302 , G01N 23/225 , H01J 37/28 , H01L 21/66

FI (4)：

G01R 31/28 L , G01N 23/225 , H01J 37/28 B , H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

格子欠陥観察用電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-128471 Applicant：株式会社日立製作所
パターン検査装置、欠陥検査装置およびパターン検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-232565 Applicant：株式会社ニコン

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