回転式基板処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉谷勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995141270
Publication number (International publication number)：1996316290
Application date： May. 15, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：

【要約】【目的】基板の支持姿勢が適正かどうかを迅速に判別する。【構成】基板Wを支持する支持部材5...と基板Wの外周端面に当接して水平方向の移動を規制する規制部材6...とを備えた基板保持部材3の周囲に、基板保持部材3に保持された基板Wの存否を検出する第1の投光器8と第1の受光器9とを設け、かつ、投光軌跡Tが平面視において基板保持部材3に保持された基板Wに重複するとともに交差するように、水平方向に光を投射する第2の投光器11,11と、その投射された光を受ける第2の受光器12,12とを設け、第1および第2の受光器9,12,12それぞれからの信号をマイクロコンピュータ13に入力し、基板Wを回転させずに、第2の受光器9の遮光により基板Wの存在を検出するとともに第2の受光器12,12での受光光量減少により基板Wを正常に保持したことを判断する。

Claim (excerpt)：

基板を支持する支持部材と前記基板の外周端面に当接して水平方向の移動を規制する規制部材とを備えた基板保持部材を鉛直方向の軸芯回りで回転可能に設け、前記基板保持部材に保持された基板の存否を検出する基板存否センサを備えた回転式基板処理装置において、前記基板保持部材の周囲に、平面視において前記基板保持部材に保持された基板に重複するとともに互いに平行ではなく、かつ、水平方向に複数の投光軌跡を有する投光器と、対の受光器と、前記基板存否センサと前記受光器それぞれの信号に基づいて前記基板を正常に保持したことを判断する基板保持状態判断手段と、を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (6)：

H01L 21/68 , G01B 11/26 , G11B 7/26 , H01L 21/027 , H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (6)：

H01L 21/68 F , G01B 11/26 Z , G11B 7/26 , H01L 21/304 341 S , H01L 21/304 341 C , H01L 21/30 564 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

キャリヤ検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-352555 Applicant：神田勲
特開平4-154144

Cited by examiner (3)

特開平4-154144
キャリヤ検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-352555 Applicant：神田勲
特開平4-154144

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