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J-GLOBAL ID：200903081065312161

マイクロレンズの製造方法および装置

Inventor： ガル,ジョージ
Applicant, Patent owner： ロッキード ミサイルズ アンド スペース カンパニー インコーポレイテッド
Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1994513119
Publication number (International publication number)：1996504515
Application date： Oct. 15, 1993
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】あらゆる設計形状のマイクロレンズがレプリカとしてフォトレジスト材に形成され、このフォトレジスト材のレプリカは基材に直接にレプリカを形成することに使用される。

Claim (excerpt)：

単一露光マスクを使用してあらゆる設計形状のマイクロレンズのレプリカをフォトレジスト材に複製する方法であって、 十分に小さな特定の開口寸法を有して形成されるとともに、設計マイクロレンズ形状における位置と関係を有する十分に多数の特定位置に配置されて、設計マイクロレンズのレプリカ像をフォトレジスト材中に形成できるようにする複数の正確な位置に配置され且つ寸法決めされた光伝達開口を有する露光マスクを構成し、 選択した波長の、前記単一マスクの前記開口を通して伝達された光で関係するフォトレジスト材を選択した時間にわたって露光し、 設計マイクロレンズのフォトレジスト材に、しかる後に基材に設計マイクロレンズを形成するために使用できるレプリカを形成するために、露光されたフォトレジスト材を処理する諸段階を含むことを特徴とするマイクロレンズのレプリカをフォトレジスト材に複製する方法。

IPC (3)：

G02B 3/08 ,  B29D 11/00 ,  G03F 1/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光学デバイス及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-161407   Applicant：三井石油化学工業株式会社