Pat
J-GLOBAL ID：200903081239969238

ゾルゲル薄膜の成膜法

Inventor：
赤松 佳則

About 赤松 佳則

, 
西田 佳弘

About 西田 佳弘


Applicant, Patent owner：
セントラル硝子株式会社

About セントラル硝子株式会社


Agent (1)： 坂本 栄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996046182
Publication number (International publication number)：1997234415
Application date： Mar. 04, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：
【要約】【課題】 スピンコート法でゾルゲル液を用い、大面積の基板上に2μm程度以下、特に1μm程度以下の均一な光学薄膜を連続的に成膜する成膜法を得る。【解決手段】 基板上にスピンコート法によってゾルゲル薄膜を被膜形成する成膜法において、スピンコータ-上にセットして回転しつつある基板表面に被膜形成用塗布液を滴下し、スピン回転により該塗布液を表面上に被膜化した後、該被膜化した塗布液が渇きはじめて流動性を失う前に基板のスピン回転を一旦停止し、被膜化した塗布液自体の流動によりレベリングさせ、次いでレベリングした状態で低速回転させることで均一な被膜を形成するゾルゲル薄膜の成膜法。
Claim (excerpt)：
基板上にスピンコート法によってゾルゲル薄膜を被膜形成する成膜法において、スピンコータ-上にセットして回転しつつある基板表面に被膜形成用塗布液を滴下し、スピン回転により該塗布液を表面上に被膜化した後、該被膜化した塗布液が渇きはじめて流動性を失う前に基板のスピン回転を一旦停止し、被膜化した塗布液自体の流動によりレベリングさせ、次いでレベリングした状態で低速回転させることで均一な被膜を形成することを特徴とするゾルゲル薄膜の成膜法。
IPC (4)：
B05D 1/40 ,  B60J 1/00 ,  C03C 17/30 ,  C23C 18/02
FI (4)：
B05D 1/40 A ,  B60J 1/00 ,  C03C 17/30 A ,  C23C 18/02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM