荷電粒子ビーム照射方法および荷電粒子ビーム照射装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997341035
Publication number (International publication number)：1999169469
Application date： Dec. 11, 1997
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】荷電粒子ビームを時間的に変化させながら照射する場合における標的内3次元線量分布を得る。【解決手段】荷電粒子ビーム照射中に、荷電粒子ビーム照射位置および荷電粒子ビーム照射量に関する情報と、荷電粒子ビーム発生装置および荷電粒子ビーム照射装置の運転パラメータを記録することにある。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビーム照射中に、荷電粒子ビーム照射位置および荷電粒子ビーム照射量に関する情報と、荷電粒子ビーム発生装置および荷電粒子ビーム照射装置の運転パラメータを記録することを特徴とする荷電粒子ビーム照射方法。

IPC (3)：

A61N 5/10 , G21K 1/08 , G21K 5/04

FI (4)：

A61N 5/10 D , A61N 5/10 P , G21K 1/08 , G21K 5/04 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

荷電粒子ビーム装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-261605 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭59-000075
特公平7-032806

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