Pat

J-GLOBAL ID：200903081294178126

画像処理方法

Inventor： 粒 崎 耕 治
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993081822
Publication number (International publication number)：1994295330
Application date： Apr. 08, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 濃淡が不均一な画像データを処理して、対象パターンを含むSEM画像データを補正し、濃淡の不均一性をなくすことにより、対象パターンの寸法測定精度やパターンの存在、欠陥等の検出精度の向上を可能にする。【構成】 量子化すべきパターン(A)上に電子ビーム12を走査して二次電子信号S3に基づく第1の画像データ(B)を得る第1のステップと、第1の画像データにおいて1画素の少なくともN倍の範囲にわたるフィルタマトリックスを用いて空間フィルタリング処理して第2の画像データ(C)を得る第2のステップと、前記第1の画像データと前記第2の画像データの差分に対して前記第1の画像データの濃淡値の平均値を加算することにより補正された第3の画像データ(D)を得る第3のステップと、を備え、背景の濃淡の影響を除去した画像データを得る。

Claim (excerpt)：

量子化すべきパターン上に電子ビームを走査して第1の画像データを得る第1のステップと、前記第1の画像データに対し、その第1の画像データにおけるある画素をその画素のまわりの複数の画素によって平滑化するフィルタマトリックスを用いた空間フィルタリング処理を施して第2の画像データを得る第2のステップと、前記第1の画像データと前記第2の画像データの差分に対して前記第1の画像データの濃淡値の平均値を加算することにより補正された第3の画像データを得る第3のステップと、を備えることを特徴とする画像処理方法。

IPC (4)：

G06F 15/62 405 ,  G06F 15/00 ,  G06F 15/68 400 ,  H01J 37/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 画像検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-217466   Applicant：松下電器産業株式会社