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J-GLOBAL ID：200903081334528931

薄膜形成方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置

Inventor：
村上 隆

About 村上 隆

, 
福田 和浩

About 福田 和浩


Applicant, Patent owner：
コニカ株式会社

About コニカ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001127649
Publication number (International publication number)：2002322558
Application date： Apr. 25, 2001
Publication date： Nov. 08, 2002
Summary：
【要約】【課題】 連続処理に適しており、安価に多層の薄膜を均一に形成する方法を提供し、更にこの方法で表面に薄膜を形成した光学フィルム、これを用いた偏光板や画像表示装置を提供する。【解決手段】 裏面の動摩擦係数が0.9以下である基材フィルム、抗張力が1.4×102N/mm2以上の基材フィルム、水分率が4%以下の基材フィルム、あるいは金属支持体からウェブを剥離後幅方向に延伸した基材フィルムの表面に、大気圧もしくは大気圧近傍の圧力下にある電極間隙に反応ガスを供給しながらプラズマ放電処理をすることを特徴とする薄膜形成方法。
Claim (excerpt)：
裏面の動摩擦係数が0.9以下である基材フィルムの表面に、大気圧もしくは大気圧近傍の圧力下にある電極間隙に反応ガスを供給しながらプラズマ放電処理をすることを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (4)：
C23C 14/22 ,  B01J 19/08 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/30
FI (4)：
C23C 14/22 Z ,  B01J 19/08 H ,  G02B 5/30 ,  G02B 1/10 Z
F-Term (30)：
2H049BA02 ,  2H049BB33 ,  2K009AA02 ,  2K009BB28 ,  2K009CC09 ,  2K009CC12 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD09 ,  2K009DD17 ,  4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075ED06 ,  4G075EE12 ,  4G075FB12 ,  4K029AA11 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA12 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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