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J-GLOBAL ID：200903081336864084

光導波路の製造方法

Inventor： 川又 繁 ,  堀 彰弘
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社
Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993225821
Publication number (International publication number)：1995098420
Application date： Sep. 10, 1993
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 屈折率が高く光の透過性の良好な光導波路の製造方法を提供する。【構成】 基板1の表面に光導波路用ガラス膜として低屈折率層2及びコアガラス膜3を形成し、そのコアガラス膜3に第一の熱処理を施した後フォトリソグラフィ及びドライエッチングによりコア導波路をパターン化し、そのパターン化したコア導波路上にクラッド膜6を形成した後第二の熱処理を施す光導波路の製造方法において、第一、第二の熱処理の前にコアガラス膜3及びコア導波路に屈折率制御用添加物の揮散を阻止する拡散障壁膜を被着することを特徴としている。

Claim (excerpt)：

基板の表面に光導波路用ガラス膜として低屈折率層及びコアガラス膜を形成し、そのコアガラス膜に第一の熱処理を施した後フォトリソグラフィ及びドライエッチングによりコア導波路をパターン化し、そのパターン化したコア導波路上にクラッド膜を形成した後第二の熱処理を施す光導波路の製造方法において、前記第一、第二の熱処理の前に前記コアガラス膜及び前記コア導波路に屈折率制御用添加物の揮散を阻止する拡散障壁膜を被着することを特徴とする光導波路の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-263633   Applicant：富士通株式会社
• 特開昭62-124511
  
• 光導波路及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-291513   Applicant：富士通株式会社