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J-GLOBAL ID:200903081413735446
次亜塩素酸塩の製造装置および製造方法
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
米澤 明 (外7名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999067918
Publication number (International publication number):2000265289
Application date: Mar. 15, 1999
Publication date: Sep. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高濃度の次亜塩素酸塩を電気分解で製造する塩の効率的な利用が可能な装置を得る。【解決手段】 陽イオン交換膜によって陰極室と陽極室に区画した電解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応槽と、陽極室あるいは陰極室の少なくともいずれか一方との間には、陽極室生成物あるいは陰極室生成物の少なくともいずれか一方を次亜塩素酸塩反応槽へ導入する導入手段、陽極室への塩水の供給路には、食塩濃度測定手段、流量測定手段、食塩濃度および流量の変化に基づき流量を調整する食塩流量制御手段を有し、陰極室への水の供給路には、水量測定手段、給水ポンプ、水量測定手段の測定値と陽極室への塩水の濃度および供給量に基づく水供給制御手段を有する次亜塩素酸塩の製造装置。
Claim (excerpt):
塩水の電気分解による次亜塩素酸塩の製造装置において、陽イオン交換膜によって陰極室と陽極室に区画した電解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応槽と、陽極室あるいは陰極室の少なくともいずれか一方との間には、陽極室生成物あるいは陰極室生成物の少なくともいずれか一方を次亜塩素酸塩反応槽へ導入する導入手段、陽極室への塩水の供給路には、食塩濃度測定手段、流量測定手段、食塩濃度および流量の変化に基づき流量を調整する食塩流量制御手段を有し、陰極室への水の供給路には、水量測定手段、給水ポンプ、水量測定手段の測定値と陽極室への塩水の濃度および供給量に基づく水供給制御手段を有することを特徴とする次亜塩素酸塩の製造装置。
IPC (4):
C25B 1/26
, C01B 11/06
, C02F 1/46
, C25B 9/00
FI (4):
C25B 1/26 C
, C01B 11/06 A
, C02F 1/46 Z
, C25B 9/00 E
F-Term (32):
4D061DA03
, 4D061DB10
, 4D061EA02
, 4D061EB13
, 4D061EB30
, 4D061EB37
, 4D061EB39
, 4D061ED13
, 4D061GA02
, 4D061GA04
, 4D061GA06
, 4D061GA12
, 4D061GA14
, 4D061GC02
, 4K021AB07
, 4K021BA03
, 4K021BC01
, 4K021BC03
, 4K021BC04
, 4K021BC05
, 4K021BC07
, 4K021CA08
, 4K021CA09
, 4K021CA10
, 4K021CA11
, 4K021CA12
, 4K021DB18
, 4K021DB19
, 4K021DB21
, 4K021DB31
, 4K021DC07
, 4K021DC11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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次亜塩素酸塩の製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-210386
Applicant:クロリンエンジニアズ株式会社
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特開昭53-039996
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