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J-GLOBAL ID:200903081465352049
微細構造物の形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
吉田 研二 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997247696
Publication number (International publication number):1999079900
Application date: Aug. 27, 1997
Publication date: Mar. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 線径数10nmの線材を得る。【解決手段】 電子ビーム16を基材12の端部に照射し、基材12を溶解させた後、ビームを基材12から離れる方向に移動させる。これによって、基材12からの原子が電子ビーム16により引き出される。これによって、基材12と電子ビーム16間の空間にワイヤ20が形成される。
Claim (excerpt):
電子ビームで基材表面を照射している状態で、基材または電子ビームを移動させて基材と電子ビームの相対的距離を徐々に増大させ、基材と電子ビームの間に基材の材質からなる線材を成長させることを特徴とする微細構造物の形成方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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マイクロマシニング方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-004400
Applicant:富士電機株式会社
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