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J-GLOBAL ID:200903081931549680
プラズマ発生装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
藤谷 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005003615
Publication number (International publication number):2006196210
Application date: Jan. 11, 2005
Publication date: Jul. 27, 2006
Summary:
【課題】任意形状の領域に効率良くプラズマを照射すること。【解決手段】電極10A及び10Bは、互いに対峙する面に各々一連の溝部11を有する。電極10A及び10Bと、プラズマを発生させるガスの流路201を有する絶縁物から成る治具20とを組み合わせて開口部101を形成する。こうして電極10A及び10Bに交流電位を印加すると、陰極側となった電極の溝部11にホローカソードプラズマが発生し、プラズマを発生させるガスの流れと共に図面上方に位置する被加工物に照射される。電極10A及び10Bの対峙する領域、即ちの開口部101の形状を設計することで、任意形状の領域に効率良くプラズマを照射することが可能となる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
プラズマ発生装置であって、
所望の形状の開口部を形成するように、間隙を挟んで用いられる2つの電極を有し、
少なくとも片方の前記電極の前記間隙に面する部分に、少なくとも1箇所の凹部が形成されており、
前記開口部とは逆側から前記間隙にプラズマを発生させるガスを注入することで、前記凹部においてホローカソード放電によるプラズマを発生可能とし、前記開口部からプラズマを放出可能としたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (2):
FI (2):
H05H1/24
, H01L21/304 645C
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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特開平1-226147号公報
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高周波放電用電極及び高周波プラズマ基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-191179
Applicant:アネルバ株式会社, 菅原實
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