Pat

J-GLOBAL ID：200903082064796331

部分酸化法による合成ガスの製造方法

Inventor： 八木 冬樹 ,  南雲 篤郎 ,  和田 幸隆 ,  志村 光則 ,  浅岡 佐知夫 ,  若松 周平
Applicant, Patent owner： 千代田化工建設株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998117822
Publication number (International publication number)：1999130404
Application date： Apr. 13, 1998
Publication date： May. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 含炭素有機化合物を酸素と反応させて合成ガスを製造する方法において、炭素析出の問題の解決された合成ガスの製造方法を提供する。【解決手段】 含炭素有機化合物と酸素とを触媒の存在下で反応させて合成ガスを製造する方法において、該触媒として、金属酸化物からなる担体に第8族金属の中から選ばれる少なくとも1種の触媒金属を担持させた触媒であって、(i)該担体金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度が13.0以下であり、(ii)該触媒の比表面積が25m2/g以下であり、(iii)該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して0.0005〜0.1モル%である触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。

Claim (excerpt)：

含炭素有機化合物と酸素とを触媒の存在下で反応させて合成ガスを製造する方法において、該触媒として、金属酸化物からなる担体に第8族金属の中から選ばれる少なくとも1種の触媒金属を担持させた触媒であって、(i)該担体金属酸化物中の金属イオンの電気陰性度が13.0以下であり、(ii)該触媒の比表面積が25m2/g以下であり、(iii)該触媒金属の担持量が該担体金属酸化物に対して0.0005〜0.1モル%である触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。

IPC (5)：

C01B 3/36 ,  B01J 23/46 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/46 311 ,  C01B 3/40

FI (5)：

C01B 3/36 ,  B01J 23/46 M ,  B01J 23/46 301 M ,  B01J 23/46 311 M ,  C01B 3/40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-331704
  
• 特開平2-307802
  
• 低級炭化水素燃料の改質方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-327865   Applicant：株式会社東芝
• 炭化水素の接触部分酸化法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-174670   Applicant：シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ