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J-GLOBAL ID：200903082180438884

反射ミラー、導光光学系システム、レーザ加工機、および反射ミラーの製造方法

Inventor： 伊田 英紀 ,  前川 滋樹 ,  中山 敬之 ,  竹野 祥瑞 ,  土方 祥雄
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (4)： 竹中 岑生 ,  大岩 増雄 ,  児玉 俊英 ,  村上 啓吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003371362
Publication number (International publication number)：2005134680
Application date： Oct. 31, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：

【課題】 環境にやさしく、入手が容易かつ低コストであり、レーザ加工機のスキャンミラーなどの高速揺動系に用いることができ、従来よりも大型化可能な反射ミラーを提供することを技術課題としている。【解決手段】 表面部に反射面が形成された基体部210と、この基体部の背面部に一体的に設けられ該基体部の歪みを防ぐ補強構造部220とが一体に形成された反射ミラー200において、上記基体部および補強構造部の構成材として炭化物系セラミックスを用いるように構成したものである。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

表面に反射面が形成された基体部と、この基体部の裏面に設けられ該基体部の歪みを防ぐ補強構造部とが一体に形成された反射ミラーにおいて、上記基体部および補強構造部の構成材として炭化物系セラミックスを用いてなることを特徴とする反射ミラー。

IPC (2)：

G02B5/08 ,  G02B26/10

FI (3)：

G02B5/08 A ,  G02B5/08 C ,  G02B26/10 104Z

F-Term (13)：

2H042DA01 ,  2H042DA05 ,  2H042DA10 ,  2H042DA14 ,  2H042DA19 ,  2H042DB04 ,  2H042DC01 ,  2H042DC06 ,  2H042DC08 ,  2H042DC09 ,  2H042DE00 ,  2H042DE06 ,  2H045AB02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 揺動反射ミラー及びレーザー加工機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-160081   Applicant：日立ビアメカニクス株式会社
• 光学ミラーと光学スキャナーおよびレーザ加工機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-299633   Applicant：松下電器産業株式会社

Cited by examiner (4)

• 光学ミラーと光学スキャナーおよびレーザ加工機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-299633   Applicant：松下電器産業株式会社
• 露光装置用部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-306157   Applicant：東陶機器株式会社
• 光ビーム走査装置用反射ミラー及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-168978   Applicant：富士写真光機株式会社
• 放射光・X線反射用SiCミラーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-071626   Applicant：東芝セラミックス株式会社