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J-GLOBAL ID：200903082246261786

エッチング装置

Inventor：
田村 直行

About 田村 直行


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001124594
Publication number (International publication number)：2001358132
Application date： Feb. 23, 1993
Publication date： Dec. 26, 2001
Summary：
【要約】【課題】現在大気中へ放出されている多量の未反応ガスを分離し、循環して再使用あるいは回収することによって、装置の運転コストを低減し、除害設備への投資も軽減する。また、エッチングガスの排出のためのポンプへの負担を軽減し、省エネルギー化する。【解決手段】処理室11から排出されるガスや反応生成物あるいは未反応のまま排出されるガスをフィルターやサイクロン等の分離手段50に導き、エッチングガスと反応生成物とに分離し、さらに、反応生成物をかい離させて、被エッチング材の固形物と元のエッチングガスに別ける。分離されたエッチングガスは、循環・蓄積手段60、流路制御部71を経て処理室11に循環させて再利用する。
Claim (excerpt)：
処理室にエッチングガスを導入し、該エッチングガスをプラズマ化し、このプラズマによって前記処理室内に置かれた基板のエッチング処理を行うエッチング方法において、エッチング処理に伴って前記処理室から排出される排ガスを、前記エッチングガスと固形物とに分離し、分離された前記エッチングガスを前記処理室に循環させて、次のエッチング処理に使用することを特徴とするエッチング方法。
IPC (2)：
H01L 21/3065 ,  B01J 19/08
FI (2)：
B01J 19/08 H ,  H01L 21/302 B
F-Term (20)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA26 ,  4G075CA42 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  5F004AA16 ,  5F004BC02 ,  5F004BC03 ,  5F004BC04 ,  5F004DA04 ,  5F004DA05 ,  5F004DA26 ,  5F004DB01 ,  5F004DB02 ,  5F004DB03 ,  5F004DB09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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