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J-GLOBAL ID:200903082433877979
複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995170017
Publication number (International publication number):1997022512
Application date: Jul. 05, 1995
Publication date: Jan. 21, 1997
Summary:
【要約】【目的】 MR素子を熱的に劣化させることなく高記録磁界密度を達成し、当該複合型薄膜磁気ヘッドが摺動型である場合に下部磁気コア及び上部磁気コアに発生しがちな偏摩耗を緩和して、信頼性の高い複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【構成】 複合型薄膜磁気ヘッドを、ベース基板1上に作製されたインダクティブヘッド部P上にMRヘッド部Qを積層形成して構成する。この場合、ベース基板1上に成膜された絶縁層2の上面に溝部2aを形成し、この溝部2aが存することにより下部磁気コア3に形成される凹部3a上に第1の平坦化層23を介して導体コイル4を埋設形成する。
Claim (excerpt):
非磁性材料よりなる基板上に、上面に凹部を有する軟磁性材料よりなる下部磁気コアと、当該下部磁気コアに形成された凹部上に絶縁材料よりなる平坦化層を介して埋設形成されてなるスパイラル状の導体コイルと、当該導体コイル上に絶縁材料よりなる平坦化層を介して積層された軟磁性材料よりなる上部磁気コアとを有する誘導型磁気ヘッド部を備えるとともに、下部磁性層を兼ねた前記上部磁気コア上に絶縁層を介して形成されてなる磁気抵抗効果素子と、当該磁気抵抗効果素子上に絶縁層を介して積層されてなる上部磁性層とを有する磁気抵抗効果型磁気ヘッド部を備えることを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッド。
IPC (2):
FI (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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複合型磁気ヘッドおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-329480
Applicant:株式会社日立製作所, 日立金属株式会社
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薄膜磁気ヘッドの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-083583
Applicant:松下電器産業株式会社
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非磁性基板材および浮上式磁気ヘッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-223683
Applicant:日立金属株式会社
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