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J-GLOBAL ID：200903082578040619

フレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法

Inventor： 田村 繁治 ,  安本 正人 ,  上條 長生 ,  鈴木 芳生 ,  淡路 晃弘
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  科学技術振興事業団 ,  財団法人高輝度光科学研究センター
Agent (1)： 三枝 英二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000394583
Publication number (International publication number)：2002196122
Application date： Dec. 26, 2000
Publication date： Jul. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】高分解能のフレネルゾーンプレートを開発するために、界面乱れが少ないフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】2以上の蒸着源を用いて蒸着を行うことによって細線状基板上に多層薄膜を形成するフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法であって、槽内において、蒸着源と細線状基板との間に斜入射蒸着成分および回り込み蒸着成分の飛来を軽減することを目的としたスリットを設け、スリットを通過した蒸着成分を細線状基板または既に蒸着させた薄膜上に蒸着させることを特徴とするフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

2以上の蒸着源を用いて蒸着を行うことによって細線状基板上に多層薄膜を形成するフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法であって、槽内において、蒸着源と細線状基板との間に斜入射蒸着成分および回り込み蒸着成分の飛来を軽減することを目的としたスリットを設け、スリットを通過した蒸着成分を細線状基板または既に蒸着させた薄膜上に蒸着させることを特徴とするフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法。

IPC (4)：

G02B 5/18 ,  C23C 14/24 ,  G02B 3/08 ,  G02B 13/18

FI (4)：

G02B 5/18 ,  C23C 14/24 C ,  G02B 3/08 ,  G02B 13/18

F-Term (22)：

2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA31 ,  2H049AA46 ,  2H049AA50 ,  2H049AA63 ,  2H087KA12 ,  2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA05 ,  2H087RA03 ,  2H087RA47 ,  4K029AA02 ,  4K029AA21 ,  4K029BA03 ,  4K029BA08 ,  4K029BB02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14 ,  4K029EA01 ,  4K029JA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭57-104904
  
• 超伝導薄膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-344520   Applicant：松下電器産業株式会社